圓盤(pán)盤(pán)磨機是目前廣泛使用的精煉設備，在精煉中的使用具有優(yōu)勢。但目前圓盤(pán)盤(pán)磨機在使用中還存在著(zhù)能耗高、壽命短等問(wèn)題。綜述了國內外盤(pán)式精煉機的研究進(jìn)展，新型盤(pán)式精煉機的發(fā)展，以及盤(pán)式精煉機的一些新技術(shù)和新研究成果，對盤(pán)式精煉機的發(fā)展趨勢進(jìn)行了一定的預測。為我國圓盤(pán)磨機的設計和應用提供了一定的參考。

　　盤(pán)式盤(pán)磨機的主要特點(diǎn)是什么?

　　1、圓盤(pán)盤(pán)磨機為連續打漿設備。連續打漿容易達到教學(xué)質(zhì)量均勻穩定，提高企業(yè)勞動(dòng)生產(chǎn)率，為自動(dòng)化提供信息技術(shù)經(jīng)濟基礎，滿(mǎn)足規�；�生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)發(fā)展的需要。

　　2、圓柱轉子與定子的相對運動(dòng)不產(chǎn)生礦漿從進(jìn)口到出口的軸向移動(dòng)力;而錐形磨漿機轉子的轉動(dòng)使紙漿獲得離心力和磨套錐形斜面的合力，使出漿的紙漿由小端向大端移動(dòng)，盤(pán)式磨漿機實(shí)現打漿當動(dòng)盤(pán)轉動(dòng)時(shí)，使礦漿產(chǎn)生的離心力與盤(pán)間礦漿進(jìn)出口方向完全一致。因此，圓盤(pán)磨漿機是目前制漿設備中相對節能的。因此，盤(pán)式磨漿機占用空間小，效率高，功耗低。

　　3、由于一個(gè)圓盤(pán)盤(pán)磨機結構和研磨處理方式的不斷進(jìn)行改進(jìn)和完善，向專(zhuān)業(yè)化水平方向以及發(fā)展，使圓盤(pán)磨漿機能可以適應社會(huì )各種生產(chǎn)紙漿(化學(xué)木漿、機械漿、廢紙)的連續打漿紙漿)和一些具有特殊紙漿;適用于漿料質(zhì)量濃度為2%-5%，并配有自動(dòng)管理控制技術(shù)系統，實(shí)現恒能耗或恒功率打漿，確保打漿效果比較穩定。

　　4、圓盤(pán)磨漿機具有一個(gè)突出的優(yōu)點(diǎn)，即可以實(shí)現高濃度連續磨漿(濃度20%～30%)，有效地提高磨漿質(zhì)量。

　　5、由于半化學(xué)漿、化學(xué)磨木漿、冷堿法制漿、預熱木片磨木漿等制漿生產(chǎn)工藝的快速經(jīng)濟發(fā)展，大大促進(jìn)了一個(gè)圓盤(pán)磨漿機的發(fā)展。圓盤(pán)磨漿機不僅可用作打漿操作設備，還可可以用作制漿技術(shù)設備。

　　圓盤(pán)磨漿機理論研究進(jìn)展

　　國內對圓盤(pán)磨機相關(guān)管理理論的認識和研究發(fā)展始于對進(jìn)口質(zhì)量圓盤(pán)磨機配件的改造。對圓盤(pán)磨機的研究主要從以下幾個(gè)方面進(jìn)行：

　�、� 盤(pán)式磨盤(pán)研究(包括盤(pán)齒形、尺寸、磨損機理和使用壽命);

　�、� 盤(pán)磨機結構優(yōu)化、系統控制、實(shí)際運行狀態(tài)及能耗;

　�、� 盤(pán)磨機過(guò)程控制中運行參數與過(guò)程控制原則和方法的關(guān)系研究;

　�、軋A盤(pán)磨機在線(xiàn)狀態(tài)監測、故障診斷技術(shù)及在線(xiàn)傳感器研究。